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LB膜研究前景诱人
，可以用来研究那些依赖于分子排列的物理和化学效应。目前，一些新的单层膜制作技术已得到发展，许多功能强的表面活性剂分子已广泛应用，自组装的单层膜已经实现，不同种的分子可以按照预定的方式互锁。微电子学的未来将趋于小型化，因此，需要更加精确和越来越小的功能成分，这就大大地促进了LB膜的发展。因为LB技术可以获得精确，无缺陷、稳定的单分子膜a聚合物的单层膜正在被研究，特别是为显微电子束刻蚀用的单层聚合LB膜已取得成功。微电子学的宏伟前景正在激励着LB膜的发展。化学家正在设法合成具有互锁功能的分子。这样，复杂的有组织的系统可以通过分子自组装来实现，而LB膜技术可以让分子有次序的进行自组装。当然，一架功能复杂的超分子机器的成功需要LB技术同其它技术互相配合。=、LB膜研究中值得注意的几个方面LB膜发展到今天，已经制造出诸如导电、光导、光致变色，电致变色等许多单层膜。一些特殊的传感器、信号变换器、开关、放大器等原型样机也已经制造出来。但是，从应-i82‘●用的角度看，下面几娄LB膜具有现实的应用前景。1．绝缘脯在日本的24家公司中有13家公司在研究绝缘膜,[link widoczny dla zalogowanych]。它的应用范围极广，在电子元器件、发光器件、光电池中绝缘层的质量、厚度都起着极其重要的作用。早期，当人们使用长链脂肪酸制备LB膜的时候，就开始研究膜的绝缘特性。可是，很快发现,[link widoczny dla zalogowanych]，由于这类膜根本没有热稳定性，所以，没有j『起更多的重视。近两年，人们采用高度不饱和的高分子单体来制备LB膜，情况就大大改观，因为这种LB膜可以通过光或热的方法实现聚合，聚合LB膜的热稳定性可以高达400℃2．抗蚀LB腆’一光致和电致抗蚀膜的研究一直是微电子学领域中一个重大的研究课题。可是，由于传统制膜技术的限制，抗蚀膜的厚度很准小于1，这就使光刻或电子束刻蚀的分辨率在原则上受到限制。LB膜的出现，为超薄抗蚀膜的实现提供了极大的可能性。由法国萨克莱棱子研究中心Barraud博士首先研制成功的LB抗蚀膜已在英国得到工业应用。所用原料是二十三烯酸，分辨率达到600A。本次大会上，美国分子电子学公司报告了他们电子束刻蚀用LB膜的进展,[link widoczny dla zalogowanych]。他们已经具有了工业生产的效率。所用材料是在二十三烯酸的基础上加进粘着促进剂，使刻蚀效果明显提高,[link widoczny dla zalogowanych]。日本三洋电器公司，对刻蚀膜的研究也进入实用化阶段。5．LB润滑膜在高密度的磁记录系统中，有一个基本要求，就是记录头与磁层之间必须保持一个最小距离(<100A)，以防止记录过程中的空间损耗。所以，制备润滑LB膜防止磨耗和改善磨擦性质是十分重要的问题。目前，已经对若干种润滑膜的磨擦性质做了对比评价，结果表明，硅烷化合物提供了最理想的滑动特性。日本有6家公司开展这项研究工作,[link widoczny dla zalogowanych]，其中有两家已进入实用化阶段。对此，应g『起我国的重视。4．LB脯传感器目前已有多种产品在市场出售，如日本研制的CO传感器，其成本只有0．004日元，而售价却高达4OO日元。本次大会最引人注目的是生物传感器的研究成果。它的核心问题是制造一个性能稳定的蛋白质LB膜，看来技术上已有突破。它首先是在水相中形成交联的蛋白质单层，然后再转移到亲水的固体表面上。这种交联的蛋白LB膜是作为沉积功能蛋白，如酶或抗体的基质材料，以达到传感之目的，前景十分广阔。本次国际会议的重要动向是很多高分子化学家进入了LB膜研究领域，并很快取得了重要成果。其中最突出的是联邦德国Ringsdorf教授、Wegn~r教授，日本的Shimidzu教授，Kunitakc教授等。另一个特点是提出了分子器件和超分子器件的仿生模型，这就为LB膜的研究展现了非常诱人的前景．·83·
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